将TKD分析的精度提高一个数量级

透射式Kikuchi衍射（TKD）是一种电子背散射衍射技术，能够表征纳米结构材料的相和取向信息。十多年前，Keller 和 Geiss 首次获得了相关数据。此后，该技术不断发展，现已成为一种常用的解决方案，用于在传统 EBSD 达到极限时提高空间分辨率。

TKD分析需使用电子透明样品，且衍射信号由样品底部产生，因此其实验装置与传统EBSD有所不同。早期的TKD研究采用传统EBSD硬件和Software进行，这要求改进能带检测和索引程序，以应对衍射图样中的畸变和较宽的能带。

在本教程中，我们将阐述如何通过近轴TKD（NA-TKD）解决方案来提升TKD分析效果，该方案引入了全新的几何结构和新型探测器硬件。此外，我们还将探讨其与传统TKD的差异、该方案带来的优势，以及它如何扩展您的CMOS EBSD系统的功能。

加入我们，探索：

• “近轴TKD”是什么？
• 该解决方案如何为您的应用程序带来益处
• 在EBSD分析与NA-TKD设置之间切换时更换屏幕的操作要点