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云学院 | 原子力显微镜测量薄膜和基片表面粗糙度的研究

表面粗糙度是薄膜和基片的重要测量指标,在半导体电子、数据存储、光学和其他玻璃元件以及从纸张到食品包装的薄膜和涂层等领域都有广泛的应用。表面粗糙度是在加工过程中监控沉积、蚀刻和抛光过程非常有用的指标,也是成品材料中常见的质量控制措施。新材料和新工艺使得材料表面具有超低的粗糙度,而传统的触针和光学轮廓仪得到的结果往往是有误导性的,很难或无法对其进行表征。

利用牛津仪器Asylum ResearchJupiter快速扫描原子力显微镜具有超低粗糙度的外延硅晶圆样品的表征结果。如图所示测得1µm的扫描区域对应粗糙度(Sa)仅为0.902 Å。

参加网络研讨会了解更多信息:

    • 原子力显微镜(AFM)与其他表面粗糙度测量技术的比较
    • AFM测量表面粗糙度参数类型
    • 使用AFM进行表面粗糙度测量的实际考虑
    • 使用AFM进行典型表面粗糙度测量的步骤
    • 全新的Asylum AFM如何提高表面粗糙度测量
    • 几种不同材料表面粗糙度测量案例的研究

本次网络研讨会将介绍原子力显微镜作为一种强大的测量工具,用于测量从埃到几十纳米或几百纳米的表面粗糙度。来自Asylum Research的全新的原子力显微镜可以使这些测量变得更快、更容易,并且比目前仍然普遍使用的上一代原子力显微镜更准确。这些能力将通过从与工业和学术研究相关的材料实际案例来给与证实。

时间:2020年7月29日22:00-23:00 BJS

注意事项:

  • 本次课程为全英文
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