7 Nov

牛津仪器等离子技术研讨会西安站成功举办

2018年11月7日,牛津仪器在西安举办等离子技术应用研讨会。本次研讨会主题为等离子技术在刻蚀与沉积工艺中的应用,包括:第三代半导体刻蚀技术的研究发展、5G时代射频微波滤波器应用、光学器件中Inp刻蚀工艺、VSCEL制造的等离子体解决方案、深硅刻蚀在MEMS和TSV中的应用等内容。来自西安电子科技大学、中国电子科技集团及牛津仪器的各位技术专家老师带了专业而精彩的演讲与应用分享。

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